کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9809491 | 1517710 | 2005 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Metal-doped carbon films obtained by magnetron sputtering
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
82.80.Yc81.05.Je81.15.Cd81.07.Bc68.55.-aRBSCeramics - سرامیک61.10.-i - 61.10.-من81.05.Uw - 81.05. یو81.70.Jb - 81.70 یوروCrystalline - جامد کریستالی، کریستالStructure - ساختار یا سازهStructures - سازه هایSpectroscopy - طیفسنجیNanostructure - نانوساختارDiffraction - پراشXRD - پراش اشعه ایکسcarbides - کاربیدهاCarbon - کربن
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Carbon films doped with Ti, V, W, Zr, Cr, and Cu were produced by magnetron sputtering. To predict the film composition, the deposition rates were systematically studied as a function of discharge power and working pressure. The achieved dopant concentrations range from 20 down to 1 at.%. The films are laterally homogeneously doped and show columnar growth. The dopant distribution is not thermally stable. After heating at 1100 K, the carbides TiC, VC, WC, ZrC, and Cr3C2 are definitely present and their grain size is on the nanometre scale. Cu segregates out. There are strong indications of the formation of carbides already during deposition.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 200, Issues 1â4, 1 October 2005, Pages 413-417
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 200, Issues 1â4, 1 October 2005, Pages 413-417
نویسندگان
M. Balden, B.T. Cieciwa, I. Quintana, E. de Juan Pardo, F. Koch, M. Sikora, B. Dubiel,