کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9829611 | 1524495 | 2005 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Properties of Si-rich SiO2 films by RF magnetron sputtering
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Properties of Si-rich SiO2 films by RF magnetron sputtering Properties of Si-rich SiO2 films by RF magnetron sputtering](/preview/png/9829611.png)
چکیده انگلیسی
Si-rich silicon oxide (SiOx, 1
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 280, Issues 3â4, 1 July 2005, Pages 352-356
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 280, Issues 3â4, 1 July 2005, Pages 352-356
نویسندگان
Y. He, L. Bi, J.Y. Feng, Q.L. Wu,