کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9830153 | 1524504 | 2005 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Flux-mediated epitaxy: general application in vapor phase epitaxy to single crystal quality of complex oxide films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Flux-mediated epitaxy: general application in vapor phase epitaxy to single crystal quality of complex oxide films Flux-mediated epitaxy: general application in vapor phase epitaxy to single crystal quality of complex oxide films](/preview/png/9830153.png)
چکیده انگلیسی
In this paper, we discuss on the capability of this general concept 'FME' for controlling phases and crystallinity of the complex oxide films, showing some examples such as optical, ferromagnetic oxide and high-Tc superconductor.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 275, Issues 1â2, 15 February 2005, Pages 325-330
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 275, Issues 1â2, 15 February 2005, Pages 325-330
نویسندگان
Y. Matsumoto, R. Takahashi, H. Koinuma,