کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9830300 | 1524506 | 2005 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effects of surface treatment on sapphire substrates
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
The influence of mechanical polishing, chemo-mechanical polishing (CMP), as well as CMP and subsequent chemical etching on the properties of sapphire substrate surfaces has been studied. The sapphire substrates have been investigated by means of polarizing microscopy, atomic force microscopy (AFM), X-ray diffraction rocking curves (XRCs) and micro-Raman spectroscopy. The results show that CMP with subsequent chemically etching yields the best-quality sapphire substrate surfaces.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 274, Issues 1â2, 15 January 2005, Pages 241-245
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 274, Issues 1â2, 15 January 2005, Pages 241-245
نویسندگان
Yinzhen Wang, Shiliang Liu, Guanliang Peng, Shengming Zhou, Jun Xu,