![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
Epitaxial integration of tetragonal BiFeO3 with silicon for nonvolatile memory applications
Keywords: A3 Heteroepitaxy; A1. Crystal structure; A3. Physical vapor deposition processes; A3. Heteroepitaxy; B1. Oxide; B2. Ferroelectric materials; B3. Nonvolatile memory;