![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
Leakage current suppression in spatially controlled Si-doped ZrO2 for capacitors using atomic layer deposition
Keywords: مواد بالا; MIM capacitor; ZrO2; High-k material; Atomic layer deposition;