![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
Characterization of anisotropic wet etching properties of single crystal silicon: Effects of ppb-level of Cu and Pb in KOH solution
Keywords: ناخالصی ; Silicon; Anisotropic etching; Impurity; Etch rate; Surface roughness