دانلود مقالات ISI درباره اچینگ واکنش پذیر یونی پلاسما به صورت القا شده + ترجمه فارسی
Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching
اچینگ واکنش پذیر یونی پلاسما به صورت القا شده
در این صفحه تعداد 26 مقاله تخصصی درباره اچینگ واکنش پذیر یونی پلاسما به صورت القا شده که در نشریه های معتبر علمی و پایگاه ساینس دایرکت (Science Direct) منتشر شده، نمایش داده شده است. برخی از این مقالات، پیش تر به زبان فارسی ترجمه شده اند که با مراجعه به هر یک از آنها، می توانید متن کامل مقاله انگلیسی همراه با ترجمه فارسی آن را دریافت فرمایید. در صورتی که مقاله مورد نظر شما هنوز به فارسی ترجمه نشده باشد، مترجمان با تجربه ما آمادگی دارند آن را در اسرع وقت برای شما ترجمه نمایند.
مقالات ISI اچینگ واکنش پذیر یونی پلاسما به صورت القا شده (ترجمه نشده)
مقالات زیر هنوز به فارسی ترجمه نشده اند. در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
Keywords: اچینگ واکنش پذیر یونی پلاسما به صورت القا شده; Cobalt iron boron; Thin films; Inductively coupled plasma reactive ion etching; Ethanol; Magnetic random access memory;
Keywords: اچینگ واکنش پذیر یونی پلاسما به صورت القا شده; CoFeB thin film; Inductively coupled plasma reactive ion etching; CH3COOH gas; Magnetic random access memory
Keywords: اچینگ واکنش پذیر یونی پلاسما به صورت القا شده; Magnetic random access memory; Magnetic tunnel junction stack; Inductively coupled plasma reactive ion etching; H2O/CH4/Ar
Keywords: اچینگ واکنش پذیر یونی پلاسما به صورت القا شده; CoFeB magnetic thin films; Magnetic tunnel junction; MRAM; Inductively coupled plasma reactive ion etching; H2O/CH4 gas
Keywords: اچینگ واکنش پذیر یونی پلاسما به صورت القا شده; CoFeB thin films; Ti hard mask; Magnetic tunnel junction; Inductively coupled plasma reactive ion etching; CH4/O2/Ar gas
Keywords: اچینگ واکنش پذیر یونی پلاسما به صورت القا شده; Iron platinum; Thin films; Titanium nitride hard mask; Magnetic tunnel junction; Inductively coupled plasma reactive ion etching; Methane; Oxygen; Argon
Keywords: اچینگ واکنش پذیر یونی پلاسما به صورت القا شده; MgO thin films; Ti hard mask; Magnetic tunnel junction; Inductively coupled plasma reactive ion etching; HBr/Ar gas
Keywords: اچینگ واکنش پذیر یونی پلاسما به صورت القا شده; FePt thin films; TiN hard mask; Magnetic tunnel junction; Inductively coupled plasma reactive ion etching; CH3OH/Ar gas
Keywords: اچینگ واکنش پذیر یونی پلاسما به صورت القا شده; Magnetic random access memory; MTJ stack; Inductively coupled plasma reactive ion etching; Cl2/Ar; BCl3/Ar