کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
6943955 1450373 2013 6 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Investigation on etch characteristics of FePt thin films using a H2O/Ar plasma
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Investigation on etch characteristics of FePt thin films using a H2O/Ar plasma
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 108, August 2013, Pages 39-44
نویسندگان
, , ,