رسوب پلاسما

در این صفحه تعداد 245 مقاله تخصصی درباره رسوب پلاسما که در نشریه های معتبر علمی و پایگاه ساینس دایرکت (Science Direct) منتشر شده، نمایش داده شده است. برخی از این مقالات، پیش تر به زبان فارسی ترجمه شده اند که با مراجعه به هر یک از آنها، می توانید متن کامل مقاله انگلیسی همراه با ترجمه فارسی آن را دریافت فرمایید.
در صورتی که مقاله مورد نظر شما هنوز به فارسی ترجمه نشده باشد، مترجمان با تجربه ما آمادگی دارند آن را در اسرع وقت برای شما ترجمه نمایند.
مقالات ISI رسوب پلاسما (ترجمه نشده)
مقالات زیر هنوز به فارسی ترجمه نشده اند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت
Keywords: رسوب پلاسما; 68.35.Ct; 68.55.−ag; 72.40.+w; 73.40.−cAmorphous semiconductors; Silicon; Solar cells; Devices; Heterojunctions; Photovoltaics; Diffraction and scattering measurements; X-ray diffraction; Films and coatings; Chemical vapor deposition; Plasma deposition; M
Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت
Keywords: رسوب پلاسما; 73.20.At; 78.20.−e; 78.20.Bh; 78.20.Ci; 78.90.+t; Silicon; Solar cells; Photovoltaics; Band structure; Plasma deposition; Defects; Monte Carlo simulations; Absorption; Optical spectroscopy; FTIR measurements; Photoconductivity; Structure;
Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت
Keywords: رسوب پلاسما; 73.50.−h; 73.61.Jc; 68.55.Jk; 61.72.Mm; 71.23.−kAmorphous semiconductors; Solar cells; Thin film transistors; Electrical and electronic properties; Conductivity; Films and coatings; Chemical vapor deposition; Ellipsometry; Plasma deposition; Microstructur
Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت
Keywords: رسوب پلاسما; 73.50.−h; 73.61.Jc; 68.55.Jk; 61.72.Mm; Amorphous semiconductors; Silicon; Solar cells; Thin film transistors; Devices; Photovoltaics; Electrical and electronic properties; Conductivity; Films and coatings; Chemical vapor deposition; Ellipsometry; Plasm
Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت
Keywords: رسوب پلاسما; 61.10.Ht; 87.64.Fb; 78.55.Qr; 78.70.DmIII–V semiconductors; Silicon; Crystal growth; Heterojunctions; Conductivity; Chemical vapor deposition; Laser deposition; Plasma deposition; Sputtering; Vapor phase deposition; Oxynitride glasses; Nuclear and chemica
Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت
Keywords: رسوب پلاسما; 81.15.−z; 68.55.−a; 68.60.Bs; 81.05.−tFilms and coatings; Chemical vapor deposition; Plasma deposition; Vapor phase deposition; Hardness; Indentation; Microindentation; Microstructure; FTIR measurements; XPS
Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت
Keywords: رسوب پلاسما; 61.10.Ht; 61.46.Bc; 78.66.Jg; 81.05.GcAmorphous semiconductors; Silicon; Thin film transistors; Plasma deposition; Sputtering; Defects; Short-range order; Stress relaxation