![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
A study on NiGe-contacted Ge n+/p Ge shallow junction prepared by dopant segregation technique
Keywords: اتصال کوچک; Germanium; Shallow junction; Contact resistance; Nickel germanide