Keywords: زبری شیب دار; High aspect ratio through silicon via; Sidewall roughness; Atom Layer Deposition; Dielectric reliability; Local field enhancement; Bimodal distribution
مقالات ISI زبری شیب دار (ترجمه نشده)
مقالات زیر هنوز به فارسی ترجمه نشده اند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
Improving sidewall roughness by combined RIE-Bosch process
Keywords: زبری شیب دار; Bosch process; Aspect ratio dependent scalloping attenuation; Reactive ion etching process; Sidewall roughness;
Optimized fabrication of wafer-level Si waveguides based on 200â¯mm CMOS platform
Keywords: زبری شیب دار; Si photonics; Waveguide; Propagation loss; Sidewall roughness;
Fabrication of nickel stamp with improved sidewall roughness for optical devices
Keywords: زبری شیب دار; Nickel stamp; Sidewall roughness; Sub-Tg annealing; Optical devices; Imprint lithography
Effects of mold shape and sidewall roughness on nanoimprint by molecular dynamics simulation
Keywords: زبری شیب دار; Direct nanoimprint; Molecular dynamics simulation; Imprinting factors; Mold shape; Sidewall roughness
Investigation of sidewall roughness of the microgrooves manufactured with laser-induced etching technique
Keywords: زبری شیب دار; 81.20.Wk; 81.65.Cf; Laser micromachining; Laser-induced etching; Laser heating; Microgroove; Sidewall roughness;
Surface oxidation of Al masks for deep dry-etch of silica optical waveguides
Keywords: زبری شیب دار; 52.77; 52.40; 81.15; 81.65; 82.45Plasma oxidation; plasma etching; Al2O3 mask; Silica optical waveguides; Sidewall roughness
Reduction of sidewall roughness in silicon-on-insulator rib waveguides
Keywords: زبری شیب دار; 42.82.Et; 42.81.Dp; 52.80.Yr; Silicon-on-insulator (SOI); Sidewall roughness; Inductive coupled plasma reactive ion etching (ICPRIE); Scattering loss;
Direct measurement of sidewall roughness of polymeric optical waveguides
Keywords: زبری شیب دار; 68.35.C; Reactive ion etching; Sidewall roughness; Atomic force microscopy; Autocorrelation length;