کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10142154 | 1646091 | 2019 | 21 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Influence of oxygen partial pressure on microstructure, optical properties, residual stress and laser induced damage threshold of amorphous HfO2 thin films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فلزات و آلیاژها
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Influence of oxygen partial pressure on microstructure, optical properties, residual stress and laser induced damage threshold of amorphous HfO2 thin films Influence of oxygen partial pressure on microstructure, optical properties, residual stress and laser induced damage threshold of amorphous HfO2 thin films](/preview/png/10142154.png)
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Alloys and Compounds - Volume 771, 15 January 2019, Pages 373-381
Journal: Journal of Alloys and Compounds - Volume 771, 15 January 2019, Pages 373-381
نویسندگان
S. Jena, R.B. Tokas, S. Tripathi, K.D. Rao, D.V. Udupa, S. Thakur, N.K. Sahoo,