کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10411627 | 894761 | 2011 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Channel scaling of hybrid GaN MOS-HEMTs
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠We studied the effect of downscaling of the MOS channel of hybrid GaN MOS-HEMT. ⺠Numerical simulations were used in this study. ⺠The improvement in on-state conduction were quantified. ⺠A Ron,sp of 2.1 mΩ-cm2 was projected for MOS channel of 0.38 μm. ⺠We also found that GaN cap layer reduced short channel effects.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solid-State Electronics - Volume 56, Issue 1, February 2011, Pages 111-115
Journal: Solid-State Electronics - Volume 56, Issue 1, February 2011, Pages 111-115
نویسندگان
Zhongda Li, T. Paul Chow,