کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10642280 | 997641 | 2005 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Silicon nano-wires grown at low temperature
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Quantities of crystalline array-orderly silicon nano-wires (SiNWs) were fabricated using chemical-vapor-deposition (CVD) method at low temperature (550-400 °C). In the experiments, the decreasing temperature process was used. By means of transmission electron spectroscopy, X-ray diffraction and Raman spectroscopy, it was found that the SiNWs were well crystallized. Finally, the growth mechanism of the SiNWs during the decreasing process was discussed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Physica E: Low-dimensional Systems and Nanostructures - Volume 27, Issue 3, April 2005, Pages 309-313
Journal: Physica E: Low-dimensional Systems and Nanostructures - Volume 27, Issue 3, April 2005, Pages 309-313
نویسندگان
Junjie Niu, Jian Sha, Lei Wang, Yujie Ji, Deren Yang,