کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10707142 | 1023631 | 2011 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Growth mechanism of InGaN quantum dots during metalorganic vapor phase epitaxy
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠InGaN quantum dots were grown on GaN by metalorganic vapor phase epitaxy. ⺠Quantum dots density, average height and diameter were â¼1010 cmâ2, 4 and 40 nm. ⺠Quantum dots are formed according to the Stranski-Krastanov growth mode. ⺠Critical layer thickness for this transition at 675 °C with 22% In was â¼4 nm. ⺠Strong green emission at around 530 nm was realised from the InGaN/GaN stacks.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 334, Issue 1, 1 November 2011, Pages 40-45
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 334, Issue 1, 1 November 2011, Pages 40-45
نویسندگان
Abdul Kadir, Christian Meissner, Tilman Schwaner, Markus Pristovsek, Michael Kneissl,