کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
10707142 1023631 2011 6 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Growth mechanism of InGaN quantum dots during metalorganic vapor phase epitaxy
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه فیزیک و نجوم فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Growth mechanism of InGaN quantum dots during metalorganic vapor phase epitaxy
چکیده انگلیسی
► InGaN quantum dots were grown on GaN by metalorganic vapor phase epitaxy. ► Quantum dots density, average height and diameter were ∼1010 cm−2, 4 and 40 nm. ► Quantum dots are formed according to the Stranski-Krastanov growth mode. ► Critical layer thickness for this transition at 675 °C with 22% In was ∼4 nm. ► Strong green emission at around 530 nm was realised from the InGaN/GaN stacks.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 334, Issue 1, 1 November 2011, Pages 40-45
نویسندگان
, , , , ,