کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10707305 | 1023644 | 2011 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Bandgap engineering of 1.3 μm quantum dot structures for terahertz (THz) emission
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Terahertz (THz) technology has attracted vast interests due to its wide applications. Quantum dot (QD) system is proposed to be the most suitable candidate for compact THz sources based on intraband transitions. However, transition energies of reported results still fall outside the THz range (with corresponding energy of â¼0.4-41Â meV). In this study, we investigate the effect of growth temperature and monolayer coverage on the transition energies of InAs/InGaAs/GaAs QDs and InAs/GaAs bilayer QDs, respectively. Consequently, the obtained energy difference was less than 40Â meV, thus demonstrating the feasibility of varying the QD growth parameters for bandgap engineering towards the THz emission range.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 323, Issue 1, 15 May 2011, Pages 211-214
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 323, Issue 1, 15 May 2011, Pages 211-214
نویسندگان
C.Y. Ngo, S.F. Yoon, J.H. Teng,