کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1445921 | 1509611 | 2014 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Dominant shallow donors in zinc oxide layers obtained by low-temperature atomic layer deposition: Electrical and optical investigations
ترجمه فارسی عنوان
اهداکنندگان کم عمق در لایه های اکسید روی به دست آمده از درجه حرارت پایین اتم لاپاروسکوپی: تحقیقات الکتریکی و نوری
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سرامیک و کامپوزیت
چکیده انگلیسی
This work is focused on the electrical and optical analyses used to estimate the activation energy of the dominant shallow donor in thin ZnO films obtained at low temperature by the atomic layer deposition process. These two approaches, based on the temperature-dependent classical Hall effect and photoluminescence investigations, yielded a donor activation energy ED in the range of 30–40 meV, including the estimated error margins. This value, as confirmed by layer composition studies, is attributed to the presence of zinc atoms in the interstitial positions of the ZnO lattice.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Acta Materialia - Volume 65, 15 February 2014, Pages 69–75
Journal: Acta Materialia - Volume 65, 15 February 2014, Pages 69–75
نویسندگان
Tomasz A. Krajewski, Krzysztof Dybko, Grzegorz Luka, Elzbieta Guziewicz, Piotr Nowakowski, Bartlomiej S. Witkowski, Rafal Jakiela, Lukasz Wachnicki, Agata Kaminska, Andrzej Suchocki, Marek Godlewski,