کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1508092 | 993951 | 2009 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
EKV3 compact modeling of MOS transistors from a 0.18 μm CMOS technology for mixed analog–digital circuit design at low temperature
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The standard version of the EKV3 compact model is evaluated for simulation of mixed analog–digital circuits working at low temperature (77–200 K). This evaluation is performed on a dual gate oxide CMOS technology with 0.18 μm/1.8 V and 0.35 μm/3.3 V MOSFET transistors. A detailed temperature analysis of some physical effects is performed. Specific effects, such as anomalous narrow channel effect, freeze-out in Lightly Doped drain (LDD) regions or quantization of the inversion charge, are observed at low or intermediate temperature. Some improvements of this compact model will allow a more accurate description of MOS transistors at low temperature.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Cryogenics - Volume 49, Issue 11, November 2009, Pages 595–598
Journal: Cryogenics - Volume 49, Issue 11, November 2009, Pages 595–598
نویسندگان
P. Martin, M. Cavelier, R. Fascio, G. Ghibaudo, M. Bucher,