کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1547230 | 1512908 | 2007 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Carbon aligned nanocolumns by RF-Magnetron sputtering: The influence of the growth parameters
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Carbon aligned nanocolumns are grown on Si substrates by means of the radiofrequency (RF)-magnetron sputtering technique. The structural and chemical characterization is reported, showing that a considerable amount of nitrogen, introduced during the deposition process, is contained in the C nanostructures determining the columnar shape. In particular, it is shown that some deposition parameters, such as the gas used for sputtering, the temperature and the RF power, influence the shape and the nitrogen-to-carbon [N]/[C] concentration ratio in the C nanostructures.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Physica E: Low-dimensional Systems and Nanostructures - Volume 37, Issues 1â2, March 2007, Pages 231-235
Journal: Physica E: Low-dimensional Systems and Nanostructures - Volume 37, Issues 1â2, March 2007, Pages 231-235
نویسندگان
S. Scalese, V. Scuderi, F. Simone, A. Pennisi, G. Compagnini, C. Bongiorno, V. Privitera,