کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1547470 | 997635 | 2009 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Wafer-scale transfer of nanoimprinted patterns into silicon substrates
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
A simple low cost method of nanoimprinting has been developed. The technique uses a flexible disposable master and lends itself to roll-to-roll processing. Residual layer thicknesses of 5-10Â nm are routinely achieved. This enables the critical step of pattern transfer into hard substrates by reactive ion etching, an essential step in the fabrication of sub-wavelength photonic device elements on a wafer-scale.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Physica E: Low-dimensional Systems and Nanostructures - Volume 41, Issue 6, May 2009, Pages 1118-1121
Journal: Physica E: Low-dimensional Systems and Nanostructures - Volume 41, Issue 6, May 2009, Pages 1118-1121
نویسندگان
G. Hubbard, S.J. Abbott, Q. Chen, D.W.E. Allsopp, W.N. Wang, C.R. Bowen, R. Stevens, A. Å atka, D. HaÅ¡ko, F. Uherek, J. KováÄ,