| کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
|---|---|---|---|---|
| 1547699 | 1512907 | 2007 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Study of the interface Si-nc/SiO2 by infrared spectroscopic ellipsometry and X-ray photoelectron spectroscopy
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
SiOx films (1
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Physica E: Low-dimensional Systems and Nanostructures - Volume 38, Issues 1–2, April 2007, Pages 176–180
Journal: Physica E: Low-dimensional Systems and Nanostructures - Volume 38, Issues 1–2, April 2007, Pages 176–180
نویسندگان
I. Stenger, B. Gallas, L. Siozade, S. Fisson, G. Vuye, S. Chenot, J. Rivory,