کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1554877 | 1513253 | 2008 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Electron spectroscopy analysis on NbN to grow and characterize NbN/AlN/NbN Josephson junction
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Three layers, NbN based Josephson junction, has been growth by RF and by DC sputtering within the constrain required by the photolithography technology. An interesting superconducting film with critical temperature of Tc=14K, well above the temperature of the commercial cryocooler, has been obtained reducing sputtering power and finding a proper N2 concentration in the gas mixture. The search of the new sputtering parameters has been obtained with the help of electron spectroscopy and X-ray diffraction analysis.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Superlattices and Microstructures - Volume 43, Issues 5–6, May–June 2008, Pages 518–523
Journal: Superlattices and Microstructures - Volume 43, Issues 5–6, May–June 2008, Pages 518–523
نویسندگان
M. Lucci, H.N. Thanh, I. Davoli,