کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1555282 | 998839 | 2006 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Optimal conditions for controllable one-dimensional nanomold by selective etching of multilayer film
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Nanomold is the most important part for the nanoimprint technique which determines the obtained feature size. We prepared relievo nanomolds by selectively etching of the a-Si/ SiNx multilayer thin-film deposited by a PECVD system. SEM results showed that the mold feature sizes were controllable on the nanometer scale and the structures depended on the conditions of the film preparation and the following etching process. Ultrasonic processing and short etching time are necessary to get the desired patterns of good quality by the chemically selective etching process, especially for strips thinner than 20Â nm. The substrate surface morphology also affects the mold structures greatly.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Superlattices and Microstructures - Volume 40, Issue 3, September 2006, Pages 161-165
Journal: Superlattices and Microstructures - Volume 40, Issue 3, September 2006, Pages 161-165
نویسندگان
Y.J. Zhang, K.J. Chen, W. Li, J. Xu, X.F. Huang,