کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1555323 | 1513258 | 2006 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Characteristics of Pt Schottky contacts on hydrogen peroxide-treated n-type ZnO(0001) layers
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The effect of hydrogen peroxide (H2O2) treatment on the characteristics of Pt Schottky contacts to n-type ZnO(0001) layers (8×1016–2×1017 cm−3) has been investigated. Pt contacts on conventional organic solvent-cleaned ZnO show fairly leaky behaviour with a leakage current of −0.05 A under −5 V, while Pt contacts on H2O2-treated ZnO give good Schottky behaviour with a leakage current of −6.5×10−8 A under −5 V. Schottky barrier heights extracted from the current–voltage characteristics are in the range 0.88–0.97 eV depending on the ideality factors. Room temperature photoluminescence results show that the hydrogen peroxide treatment is fairly effective in removing deep-level defects near the ZnO surface region.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Superlattices and Microstructures - Volume 39, Issues 1–4, January–April 2006, Pages 211–217
Journal: Superlattices and Microstructures - Volume 39, Issues 1–4, January–April 2006, Pages 211–217
نویسندگان
Sang-Ho Kim, Han-Ki Kim, Seong-Wook Jeong, Tae-Yeon Seong,