کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1623532 | 1516411 | 2008 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Diffusion layer model for pulse reverse plating
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فلزات و آلیاژها
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
This paper proposes a duplex diffusion layer model, based on Ibl theory, to evaluate the diffusion process of pulse plating with reverse current and relaxation period. In any conditions, the interfacial concentration C′ for pulse reverse plating is always higher than that for single pulse plating, it is beneficial to employ higher current density that enhances the cathode polarization effect. However, it should be ensured that tc < ta in the plating process to gain higher peak pulse current density that could enhance the cathode polarization effect and increase the nucleation rate.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Alloys and Compounds - Volume 466, Issues 1–2, 20 October 2008, Pages L19–L22
Journal: Journal of Alloys and Compounds - Volume 466, Issues 1–2, 20 October 2008, Pages L19–L22
نویسندگان
L.M. Chang,