کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1792973 | 1023662 | 2010 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Global simulation of coupled carbon and oxygen transport in a Czochralski furnace for silicon crystal growth
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
For accurate prediction of carbon and oxygen impurities in a single crystal produced by the Czochralski method, global simulation of coupled oxygen and carbon transport in the whole furnace was implemented. Both gas-phase transportation and liquid-phase transportation of oxygen and carbon were considered. With five chemical reactions considered, SiO and CO concentrations in gas and C and O atom concentrations in silicon melt were solved simultaneously. The simulation results show good agreement with experimental data.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 312, Issue 20, 1 October 2010, Pages 2972–2976
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 312, Issue 20, 1 October 2010, Pages 2972–2976
نویسندگان
B. Gao, K. Kakimoto,