کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1796519 | 1023747 | 2007 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
RF magnetron-sputtering deposition of pyroelectric lithium tantalate thin films on ruthenium dioxide
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: RF magnetron-sputtering deposition of pyroelectric lithium tantalate thin films on ruthenium dioxide RF magnetron-sputtering deposition of pyroelectric lithium tantalate thin films on ruthenium dioxide](/preview/png/1796519.png)
چکیده انگلیسی
Lithium tantalate (LiTaO3) thin films were deposited on ruthenium dioxide (RuO2) electrode by reactive radio frequency (RF) magnetron sputtering with a lithium dioxide–tantalum pentoxide (Li2O2/Ta2O5) (50–50% mole ratio) target. This article presents morphological, structural, dielectric and pyroelectric studies of LiTaO3 thin films as function of growth conditions (RF power, gas pressure and temperature). The final aim is to improve the pyroelectric coefficient for thermal detectors applications. The best pyroelectric coefficient of LiTaO3 thin films (400 nm) equal to 60 μC/m2 K was obtained for a growth temperature of 400 °C, and a pressure of 10 mTorr.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 304, Issue 1, 1 June 2007, Pages 90–96
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 304, Issue 1, 1 June 2007, Pages 90–96
نویسندگان
Philippe Combette, Laurianne Nougaret, Alain Giani, Frédérique Pascal-delannoy,