کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
4970763 | 1450301 | 2017 | 12 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Robust Si3N4 masks for 100Â nm selective area epitaxy of GaAs-based nanostructures
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Robust Si3N4 masks for 100Â nm selective area epitaxy of GaAs-based nanostructures Robust Si3N4 masks for 100Â nm selective area epitaxy of GaAs-based nanostructures](/preview/png/4970763.png)
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 180, 5 August 2017, Pages 35-39
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 180, 5 August 2017, Pages 35-39
نویسندگان
Viktoryia Zolatanosha, Dirk Reuter,