کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
4970823 1450303 2017 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Determination of trap density in hafnia films produced by two atomic layer deposition techniques
ترجمه فارسی عنوان
تعیین تراکم تله در فیلم هافنیا توسط دو روش رسوب لایه اتمی تولید شده است
کلمات کلیدی
اکسید هفنیوم، رسوب لایه اتمی، عیوب، جای خالی اکسیژن،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش مقاله
تعیین تراکم تله در فیلم هافنیا توسط دو روش رسوب لایه اتمی تولید شده است
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 178, 25 June 2017, Pages 104-107
نویسندگان
, , ,