کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
4970829 | 1450303 | 2017 | 9 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Characterization of 2DEG in AlGaN/GaN heterostructure by Hall effect
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Hall Effect measurement is carried out on an epitaxial GaN wafer. Van Der Pauw like structure is “hand-insulated” with a diamond probe and used to perform this experiment. Good linearity of VH and a constant value of Ns,Hall versus the injected current is obtained. This figure proves the feasibility of our methodology on partially (without any patterning nor metallization) processed GaN wafers.85
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 178, 25 June 2017, Pages 128-131
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 178, 25 June 2017, Pages 128-131
نویسندگان
Iliass Nifa, Charles Leroux, Alphonse Torres, Matthew Charles, Denis Blachier, Gilles Reimbold, Gérard Ghibaudo, Edwige Bano,