کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
4970829 1450303 2017 9 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Characterization of 2DEG in AlGaN/GaN heterostructure by Hall effect
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Characterization of 2DEG in AlGaN/GaN heterostructure by Hall effect
چکیده انگلیسی
Hall Effect measurement is carried out on an epitaxial GaN wafer. Van Der Pauw like structure is “hand-insulated” with a diamond probe and used to perform this experiment. Good linearity of VH and a constant value of Ns,Hall versus the injected current is obtained. This figure proves the feasibility of our methodology on partially (without any patterning nor metallization) processed GaN wafers.85
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 178, 25 June 2017, Pages 128-131
نویسندگان
, , , , , , , ,