کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
4971017 | 1450309 | 2017 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A novel PMMA/NEB bilayer process for sub-20Â nm gold nanoslits by a selective electron beam lithography and dry etch
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 172, 25 March 2017, Pages 13-18
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 172, 25 March 2017, Pages 13-18
نویسندگان
Xiaqi Huang, Jinhai Shao, ChialinTsou ChialinTsou, Sichao Zhang, Bingrui Lu, Ling Hao, Yan Sun, Yifang Chen,