کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
4971030 | 1450311 | 2017 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Investigation of the barrier slurry with better defect performance and facilitating post-CMP cleaning
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 170, 25 February 2017, Pages 21-28
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 170, 25 February 2017, Pages 21-28
نویسندگان
Xiaodong Luan, Yuling Liu, Baoguo Zhang, Shengli Wang, Xinhuan Niu, Chenwei Wang, Juan Wang,