دانلود رایگان مقاله ISI : پرتو الکترونی پلاسما تولید شده: ویژگی ها و اچینگ نیترید سیلیکون

Electron beam generated plasmas: Characteristics and etching of silicon nitride

Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 168, 25 January 2017, Pages 89-96

S.G. Walton, D.R. Boris, S.C. Hernández, E.H. Lock, Tz. B. Petrova, G.M. Petrov, A.V. Jagtiani, S.U. Engelmann, H. Miyazoe, E.A. Joseph,