کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
4971798 | 1450536 | 2016 | 11 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Fast wafer level reliability monitoring as a tool to achieve automotive quality for a wafer process
ترجمه فارسی عنوان
نظارت بر قابلیت اطمینان سطح سریع به عنوان یک ابزار برای دستیابی به کیفیت خودرو برای پردازش ویفر
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
قابلیت اطمینان سریع وفل، تجزیه اکسید، بی ثباتی درجه حرارت تعادلی منفی، الکترو مهاجرت، اسیلاتور حلقه، ساختار تست، پلاسما موجب آسیب شارژ می شود. استرس حامل داغ، خوب شارژ نظارت بر قابلیت اطمینان،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
چکیده انگلیسی
This work describes and discusses fast wafer level reliability (fWLR) Monitoring as a supporting procedure on productive wafers to achieve stringent quality requirements of automotive, medical and/or aviation applications. Examples are given for the various reliability topics: dielectrics, devices, metallisation, plasma charging with respect to required test structures, stress methods and data analysis. Application areas of fWLR are highlighted and limitations considered. Further aspects such as relevant reliability parameters, sampling strategies and out of control action plans are discussed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 64, September 2016, Pages 2-12
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 64, September 2016, Pages 2-12
نویسندگان
A. Martin, R.-P. Vollertsen, A. Mitchell, M. Traving, D. Beckmeier, H. Nielen,