کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5365023 | 1388324 | 2007 | 9 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Interfacial reactions during sputter deposition of Ta and TaN films on organosilicate glass: XPS and TEM results
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
Tantalum - تانتالم، تانتال، تانتالیمdielectrics - دیالکتریکPhysical vapor deposition (PVD) - رسوب بخار فیزیکی (PVD)X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) - طیفبینی فوتوالکترون پرتو ایکسDiffusion barrier - مانع نفوذTransmission electron microscopy - میکروسکوپ الکترونی عبوریTantalum nitride - نیترید تانتالیم
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
The evolution of the interface between organosilicate glass (OSG) and sputter deposited Ta or TaN films has been characterized by X-ray phototelectron spectroscopy (XPS). Cross-sectional TEM (XTEM) was also used to analyze Ta/OSG and TaN/OSG/interfaces for samples formed under different deposition conditions. XPS data show that Ta deposition onto OSG results in formation of an interphase between 1 and 2Â nm thick composed of oxidized Ta and C. Metallic Ta is then formed on top of the interfacial region. In contrast, Ta-rich TaN formation occurs with some nitridation of the substrate, but with no significant interphase formation. The XPS data are consistent with the XTEM data. The XTEM results for Ta/OSG indicate a spatially irregular interface over a length scale of â¼2Â nm, while results for TaN/OSG indicate a spatially abrupt region.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 253, Issue 14, 15 May 2007, Pages 6176-6184
Journal: Applied Surface Science - Volume 253, Issue 14, 15 May 2007, Pages 6176-6184
نویسندگان
J.A. Wilks, N.P. Magtoto, J.A. Kelber, V. Arunachalam,