کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5396778 | 1505765 | 2009 | 12 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Radiation damage in soft X-ray microscopy
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
Radiation damage - آسیب تابشیSoft X-rays - اشعه ایکس نرمscanning transmission X-ray microscopy - اشعه ماوراء بنفش اشعه ایکسFibrinogen - فیبرینوژنPolymer thin films - فیلم های نازک پلیمرPhotoemission electron microscopy - میکروسکوپ الکترونی PhotemissionPoly(methyl methacrylate) - پلی (متیل متاکریلات)Polystyrene - پلیاستایرن
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
The rates of chemical transformation by radiation damage of polystyrene (PS), poly(methyl methacrylate) (PMMA), and fibrinogen (Fg) in a X-ray photoemission electron microscope (X-PEEM) and in a scanning transmission X-ray microscope (STXM) have been measured quantitatively using synchrotron radiation. As part of the method of dose evaluation in X-PEEM, the characteristic (1/e) sampling depth of X-PEEM for polystyrene in the C 1s region was measured to be 4 ± 1 nm. Critical doses for chemical change as monitored by changes in the X-ray absorption spectra are 80 (12), 280 (40) and 1230 (180) MGy (1 MGy = 6.242*Ï eV/nm3, where Ï is the polymer density in g/cm3) at 300 eV photon energy for PMMA, Fg and PS, respectively. The critical dose for each material is comparable in X-PEEM and STXM and the values cited are thus the mean of the values determined by X-PEEM and STXM. C 1s, N 1s and O 1s spectroscopy of the damaged materials is used to gain insight into the chemical changes that soft X-rays induce in these materials.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena - Volume 170, Issues 1â3, March 2009, Pages 25-36
Journal: Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena - Volume 170, Issues 1â3, March 2009, Pages 25-36
نویسندگان
J. Wang, C. Morin, L. Li, A.P. Hitchcock, A. Scholl, A. Doran,