کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5396866 | 1392310 | 2008 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Al Kα and Cu Kα1 excited XPS of vanadium oxide and VF3 powders: Measurement of the V 1s - KLL Auger parameters
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Al Kα (hν = 1486.6 eV) excited XPS shows that powder samples of V2O3, V2O5 and VF3 are surface contaminated and that the V2O3 can be cleaned by heating in vacuum at 400 °C. The greater sampling depth of Cu Kα1 (hν = 8047.8 eV) excited XPS allows measurement of the bulk V 1s - KL2L3 Auger parameters (APs) for these materials. The APs of VF3 and V2O5, relative to V metal, fall into the range of values expected for metal fluorides and oxides with non-local final state core-hole screening, whereas the AP of V2O3 is significantly closer to that of V metal. We ascribe this to a greater final state valence orbital occupation following photionisation in V2O3, part of which results from metal-like screening.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena - Volume 162, Issue 1, January 2008, Pages 19-24
Journal: Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena - Volume 162, Issue 1, January 2008, Pages 19-24
نویسندگان
G. Beamson, N. Moslemzadeh, P. Weightman, J.F. Watts,