کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
540054 | 1450398 | 2007 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Sub-5 nm FIB direct patterning of nanodevices
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Sub-5 nm FIB direct patterning of nanodevices Sub-5 nm FIB direct patterning of nanodevices](/preview/png/540054.png)
چکیده انگلیسی
Nanoengraving of membranes as a template for nanopores fabrication is an application field of growing interest. Similarly to the formation of ion tracks in membranes created when high-energetic ions pass trough thin foils, it is possible with a FIB system to fabricate, design and organise nanodevices within thin membranes. In this work, we detail the advanced methodology we have carefully optimised for such deep sub-10 nm nanodevices fabrication using our high-performance FIB instrument.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 84, Issues 5–8, May–August 2007, Pages 779–783
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 84, Issues 5–8, May–August 2007, Pages 779–783
نویسندگان
J. Gierak, A. Madouri, A.L. Biance, E. Bourhis, G. Patriarche, C. Ulysse, D. Lucot, X. Lafosse, L. Auvray, L. Bruchhaus, R. Jede,