کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5403313 | 1392757 | 2009 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Rapid thermal annealing effects on the structural and optical properties of ZnO films deposited on Si substrates
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
The structural and optical properties of ZnO films deposited on Si substrate following rapid thermal annealing (RTA) have been investigated by X-ray diffraction (XRD), atomic force microscopy (AFM), and photoluminescence (PL) measurements. After RTA treatment, the XRD spectra have shown an effective relaxation of the residual compressive stress, an increase of the intensity and narrowing of the full-width at half-maximum (FWHM) of the (0 0 2) diffraction peak of the as-grown ZnO film. AFM images show roughening of the film surface due to increase of grain size after RTA. The PL spectrum reveals a significant improvement in the UV luminescence of ZnO films following RTA at 800 °C for 1 min.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Luminescence - Volume 129, Issue 2, February 2009, Pages 148-152
Journal: Journal of Luminescence - Volume 129, Issue 2, February 2009, Pages 148-152
نویسندگان
Yueh-Chien Lee, Sheng-Yao Hu, Walter Water, Kwong-Kau Tiong, Zhe-Chuan Feng, Yen-Ting Chen, Jen-Ching Huang, Jyh-Wei Lee, Chia-Chih Huang, Jyi-Lai Shen, Mou-Hong Cheng,