کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
541504 | 1450395 | 2009 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
The AFM LAO lithography on GaMnAs layers
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: The AFM LAO lithography on GaMnAs layers The AFM LAO lithography on GaMnAs layers](/preview/png/541504.png)
چکیده انگلیسی
We prepared constrictions on ferromagnetic GaMnAs layer by the local anodic oxidation (LAO) using the atomic force microscope (AFM). These oxide lines, produced by the negatively biased AFM tip, formed the electrical barrier to the conducting holes in the layer. The constricted samples were characterized at low temperature (12 K). They showed magnetoresistance effect specific for nanoconstrictions during in-plane magnetic field sweep in both polarities for the different mutual orientation of magnetic field and current. The LAO appears to become a useful patterning technique for research of ferromagnetic semiconductor nanostructures. Further optimization of LAO parameters for reaching better homogeneity of the oxide lines is needed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 86, Issues 4–6, April–June 2009, Pages 561–564
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 86, Issues 4–6, April–June 2009, Pages 561–564
نویسندگان
Jan Voves, M. Cukr, V. Novák,