کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
543754 | 1450396 | 2008 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Fabrication of optical grayscale masks for tapered microfluidic devices
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Fabrication of optical grayscale masks for tapered microfluidic devices Fabrication of optical grayscale masks for tapered microfluidic devices](/preview/png/543754.png)
چکیده انگلیسی
In this paper we report a process using electron beam lithography (EBL) to provide high-resolution prototyping of sub-wavelength patterned grayscale masks. The fabrication of such masks and the characterisation of grayscale patterning in thick optical resist are described. In addition, the application of these masks for the creation of three-dimensional tapered microstructures for use as masters in soft lithography for microfluidic devices is demonstrated.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 85, Issues 5–6, May–June 2008, Pages 1077–1082
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 85, Issues 5–6, May–June 2008, Pages 1077–1082
نویسندگان
Volker Nock, Richard J. Blaikie,