کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5458579 | 1516173 | 2017 | 29 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Multi-phase structured hydrogenated amorphous silicon carbon nitride thin films grown by plasma enhanced chemical vapour deposition
ترجمه فارسی عنوان
فیلم های نازک سیلیکون کربن نیتروژن هیدروژنه شده چند فاز ساختاری که از طریق افزایش پلاسما به دست می آید
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فلزات و آلیاژها
چکیده انگلیسی
Si (100) and glass substrates deposition with N2 and H2 gas molecules as precursors in PECVD chamber to form SiCN:H thin film.403
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Alloys and Compounds - Volume 721, 15 October 2017, Pages 70-79
Journal: Journal of Alloys and Compounds - Volume 721, 15 October 2017, Pages 70-79
نویسندگان
Mohd Azam Abdul Rahman, Wee Siong Chiu, Choon Yian Haw, Ragib Badaruddin, Fatemeh Shariatmadar Tehrani, Mohamad Rusop, Poisim Khiew, Saadah Abdul Rahman,