کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6471430 | 1424127 | 2017 | 11 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Nucleation and growth kinetics of electrodeposited Ni films on Si(100) surfaces
ترجمه فارسی عنوان
سینتیک اکتشاف و رشد نیکل الکترودهایی روی سی سی (100)
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
مهندسی شیمی (عمومی)
چکیده انگلیسی
Nucleation and growth of nickel on n- and p-type Si(100) is investigated, using a plating bath composed of nickel sulphamate and boric acid. For n-type Si, the impact of applied potential and current density on nuclei density and deposit defectivity due to hydrogen gas bubble adsorption are studied. Cathodic current transients for p-type Si show a monotonous decay as a function of time, due to light 'shadowing' of the growing nuclei. A simple model is used to explain the observations. Additionally, the impact of the Si surface chemistry on the Ni deposition process is studied. On hydrogen-terminated Si, the nuclei have a hemispherical shape, while on anodically oxidized surfaces spherical nuclei are obtained.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Electrochimica Acta - Volume 230, 10 March 2017, Pages 407-417
Journal: Electrochimica Acta - Volume 230, 10 March 2017, Pages 407-417
نویسندگان
Harold Philipsen, Hannes Jehoul, Fumihiro Inoue, Kevin Vandersmissen, Liu Yang, Herbert Struyf, Dennis van Dorp,