کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6535992 | 49321 | 2013 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Review of thin-film silicon deposition techniques for high-efficiency solar cells developed at Panasonic/Sanyo
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
کاتالیزور
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Criteria and techniques of device-grade thin film silicon deposition for high efficiency solar cells developed in Panasonic/Sanyo were reviewed. By applying these techniques, record efficiencies were achieved for a-Si single junction, a-Si/a-SiGe tandem junction. We have also fabricated very high-efficiency a-Si/µc-Si tandem solar cells and modules with a very high µc-Si deposition-rate (>2.0 nm/s) of device-grade µc-Si layers using Localized Plasma Confinement CVD.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solar Energy Materials and Solar Cells - Volume 119, December 2013, Pages 204-208
Journal: Solar Energy Materials and Solar Cells - Volume 119, December 2013, Pages 204-208
نویسندگان
A. Terakawa,