کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6942416 | 1450289 | 2018 | 29 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Using block copolymers as infiltration sites for development of future nanoelectronic devices: Achievements, barriers, and opportunities
ترجمه فارسی عنوان
استفاده از کوپلیمرهای بلوک به عنوان سایت های نفوذ برای توسعه دستگاه های نانو الکترونیک آینده: دستاوردها، موانع و فرصت ها
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
کوپلیمرهای بلوک، نفوذ معدنی، الگوسازی، لیتوگرافی نانو الکترونیک،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 195, 5 August 2018, Pages 74-85
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 195, 5 August 2018, Pages 74-85
نویسندگان
Cian Cummins, Michael A. Morris,