کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
6942783 1450326 2016 7 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Characterization for the photomask fabrication based on a high-resolution technique with a non-chemically amplified resist and a post-exposure bake
ترجمه فارسی عنوان
مشخصه برای تولید فتوشاپ بر اساس تکنیک با وضوح بالا با یک مقاومت غیر شیمیایی تقویت شده و یک بیکر پس از قرار گرفتن در معرض
کلمات کلیدی
لیتوگرافی پرتو الکترونی، مخالفان لیتوگرافی با وضوح بالا، انلینگ،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش مقاله
مشخصه برای تولید فتوشاپ بر اساس تکنیک با وضوح بالا با یک مقاومت غیر شیمیایی تقویت شده و یک بیکر پس از قرار گرفتن در معرض
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 155, 2 April 2016, Pages 7-13
نویسندگان
, ,