کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6942797 | 1450326 | 2016 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
SnOx high-efficiency EUV interference lithography gratings towards the ultimate resolution in photolithography
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: SnOx high-efficiency EUV interference lithography gratings towards the ultimate resolution in photolithography SnOx high-efficiency EUV interference lithography gratings towards the ultimate resolution in photolithography](/preview/png/6942797.png)
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 155, 2 April 2016, Pages 44-49
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 155, 2 April 2016, Pages 44-49
نویسندگان
Elizabeth Buitrago, Roberto Fallica, Daniel Fan, Tero S. Kulmala, Michaela Vockenhuber, Yasin Ekinci,