کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
6942806 1450326 2016 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Helium ion beam lithography on fullerene molecular resists for sub-10 nm patterning
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Helium ion beam lithography on fullerene molecular resists for sub-10 nm patterning
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 155, 2 April 2016, Pages 74-78
نویسندگان
, , , , , ,