کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
6942935 | 1450328 | 2016 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Top-down SiGe nanostructures on Ge membranes realized by e-beam lithography and wet etching
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Top-down SiGe nanostructures on Ge membranes realized by e-beam lithography and wet etching Top-down SiGe nanostructures on Ge membranes realized by e-beam lithography and wet etching](/preview/png/6942935.png)
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 153, 5 March 2016, Pages 88-91
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 153, 5 March 2016, Pages 88-91
نویسندگان
V. Mondiali, M. Lodari, M. Borriello, D. Chrastina, M. Bollani,